在工業(yè)過程控制、環(huán)境監(jiān)測及先進材料研發(fā)領域，高精度、高穩(wěn)定性的電化學測量技術至關重要。日本明電舍（Meidensha Corporation）憑借其在電力電子與工業(yè)自動化領域的深厚積累，推出的HZ-7000系列電化學測量系統(tǒng)，集成了多參數檢測、抗干擾設計與智能化分析功能，為半導體制造、廢水處理、新能源開發(fā)等場景提供了可靠的在線監(jiān)測解決方案。
HZ-7000系列采用低噪聲模擬前端（AFE）與24位Σ-Δ ADC技術，實現μV級信號采集，關鍵參數測量精度達：
pH值：±0.01（實驗室級）
氧化還原電位（ORP）：±0.5mV
電導率：0.1% FS（全量程）
溶解氧（DO）：±0.1mg/L
系統(tǒng)支持多電極并行測量，并通過動態(tài)溫度補償（NTC熱敏電阻+算法修正）和電極狀態(tài)自診斷（基于阻抗譜分析）確保長期穩(wěn)定性。
針對復雜工業(yè)環(huán)境（如電鍍車間、半導體潔凈室），HZ-7000通過以下設計保障數據可靠性：
硬件防護：IP67防護等級，可選耐HF酸電極，適應強腐蝕性介質。
噪聲抑制：差分輸入電路+自適應Kalman濾波，有效抑制電磁干擾（符合IEC 61326標準）。
遠程校準：支持通過Modbus RTU/TCP或Profinet協(xié)議進行自動化校準，減少人工干預。
靈活配置：提供壁掛式、管道式及無線（HZ-7000W）版本，支持第三方傳感器擴展。
智能分析：內置PCA/PLS算法，適用于電子舌、電子鼻等模式識別應用。
邊緣計算：可選配嵌入式AI模塊，實現實時異常檢測（如電極污染預警）。
TSV電鍍工藝監(jiān)控：實時監(jiān)測微孔內電解液離子濃度（Cu2?/Ni2?），優(yōu)化脈沖電鍍參數，減少孔洞缺陷。
晶圓清洗液質量控制：高精度pH/電導率聯測，確保清洗液成分符合SEMI F73標準。
電鍍廢水處理：Cr(VI)伏安法檢測（檢出限0.1ppb），聯動pH調控系統(tǒng)（2~3區(qū)間）提升鐵氧體法處理效率。
分布式水質監(jiān)測：通過WirelessHART組網，實現半徑500m內的實時數據回傳（適用于飲料廠、污水處理廠）。
PEM電解槽測試：監(jiān)測膜電極（MEA）的質子傳導率與催化劑活性衰減。
材料表征：熒光量子效率測試、生物傳感器開發(fā)（如葡萄糖/乳酸檢測）。
| 特性 | HZ-7000 | 競品（如Metrohm 2060） |
|---|---|---|
| 精度 | ±0.01pH（實驗室級） | ±0.02pH（工業(yè)級） |
| 擴展性 | 模塊化設計，支持第三方傳感器 | 封閉式專用接口 |
| 環(huán)境耐受 | IP67 + 耐HF酸電極選項 | IP65（標準） |
| 數據分析 | 內置PCA/PLS算法 | 依賴外接軟件 |
明電舍正推動HZ-7000系列向“工業(yè)4.0"深度集成：
開放API接口：與MES/SCADA系統(tǒng)無縫對接，支持定制化數據分析。
AI預測性維護：基于電極阻抗變化趨勢預測壽命，降低停機風險。
標準化兼容：拓展SEMI E54（半導體設備通信）認證，適配晶圓廠需求。
HZ-7000系列電化學測量系統(tǒng)憑借其高精度、高可靠性及場景化適配能力，已成為工業(yè)與科研領域的設備。無論是半導體制造的微尺度工藝控制，還是環(huán)保監(jiān)測的嚴苛環(huán)境挑戰(zhàn)，該系統(tǒng)均能提供精準、穩(wěn)定的數據支撐。未來，隨著智能化與標準化功能的持續(xù)升級，HZ-7000有望進一步鞏固其在電化學測量市場的地位。
