離線分光干涉測厚儀的原理及運用
| 模型 | 飛行時間 |
|---|---|
| 測量方法 | 非接觸式/光譜干涉測量法 |
| 測量對象 | 電子和光學用透明平滑膜、多層膜 |
| 測量原理 | 光譜干涉儀 |
實現高測量重復性（± 0.01 μm 或更小，取決于對象和測量條件）
不易受溫度變化的影響
可以生產用于研究和檢查的離線式和在制造過程中使用的在線式。
反射型允許從薄膜的一側進行測量
僅可測量透明涂膜層（取決于測量條件）
| 測量厚度 | 1～50μm（薄材料）、10～150μm（厚材料） |
|---|---|
| 測量長度 | 50-5000 毫米 |
| 測量間距 | 1 毫米 ~ |
| 最小顯示值 | 0.001微米 |
| 電源電壓 | AC100 V 50/60 Hz |
| 工作溫度限制 | 5～45℃（測量時溫度變化1℃以內） |
| 濕度 | 35-80%（無冷凝） |
| 測量區(qū)域 | φ0.6 毫米 |
| 測量間隙 | 約 30 毫米 |
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